据3月13日消息，佳能今日推出了面向前端工艺的全新半导体光刻机产品—— i-line步进光刻机“FPA-5550iX”。该产品可同时实现0.5m（微米）高分辨率和5050mm宽视场曝光。
据介绍，新品“FPA-5550iX”可同时实现5050mm大视场和0.5m高分辨率曝光。在日益复杂的全画幅CMOS 传感器制造领域，它可以在单次曝光中实现高分辨率。成像是可能的。
同时，充分利用高分辨率和大视场的优势，“FPA-5550iX”还可以用于制造头戴式显示器等小型显示设备的曝光过程。
此外，随着先进XR器件显示器需求的增加，该产品还可广泛应用于大视场、高对比度的Micro-OLED显示器的制造。
新产品“FPA-5550iX”不仅可以应用于半导体器件制造，还可以在最先进的XR器件显示制造等更广泛的器件制造领域发挥其作用。
此外，“FPA-5550iX”对准示波器不仅具有检测直射光的“明场检测”功能，还新增了检测散射光和衍射光的“暗场检测”功能。用户可以根据自己的需要选择合适的一款。检测方法。通过可选波长范围的扩展、区域传感器的应用以及多像素测量的可能性，最终实现更低噪声的检测结果，甚至可以检测低对比度的对准标记。它还可以应用于各种对准标记的测量，以增强支持用户多样化工艺的能力。例如，作为一种选择，用户可以选择配备能够穿透硅晶圆的远红外波长，以便在背照式传感器制造过程中实现晶圆背面的对准测量。
对准示波器是一种可以读取晶圆上的对准标记并进行对准的显微镜。其原理是将对准光源发出的光线照射到对准标记上，经过透镜，感应到区域传感器上的光线进行检测。
